فرآیند اکسیداسیون در ساخت مدارهای تجمعی سیلیکون

thesis
abstract

باتوجه به امکانات موجود، نتایج به دست آمده بسیار مثبت و رضایتبخش بوده است . برای انجام اکسیداسیون و تحقیق در زمینهء آهنگ اکسیداسیون و تاثیر دقیق عوامل مختلف بر روی آن احتیاج به یک کورهء اکسیداسیون مدرن دارد. کوره در دسترس برای این پروژه، فقط در یک دمای خاص (115 درجه سانتیگراد) کار می کرد (برای دماهای دیگر ضروری بود که دما در تمام نقاط داخل کوره به منظور به دست آوردن نیمرخ دمای اکسیداسیون اندازه گیری شود، چون سیستم کنترل کوره دقیق نبود)، لذا نتوانستیم به طور تجربی تاثیر تمام عوامل موثر را با نتایج حاصل از شبیه سازی مقایسه شده است (که توافق خوبی بین آنها مشاهده می شود) . باتوجه به این که سیستم هدایت و کنترل عوامل اکسید کننده در کورهء موجود در دانشگاه صنعتی شریف از اجزاء کورهء اکسیداسیون بیرلک نبوده و در بخش مواد و ساخت قطعات الکترونیک جهاد دانشگاهی صنعتی شریف طراحی و ساخته شده است ، پیشنهاد می شود که با خرید لوله کوارتز و ساخت سیستم هدایت و کنترل عوامل اکسید کننده شکل (6-2-3) برای کورهء موجود در دانشکدهء علوم دانشگاه مشهد، این کوره راه اندازی و برای تحقیق در زمینهء تاثیر عوامل مختلف روی آهنگ اکسیداسیون (و آزمایشات مشابه) مورد استفاده قرار گیرد. در ادامهء تحقیق بر روی فرآیندها و ادغام فرآینداکسیداسیون و فوتولیتوگرافی بر روی ویفرهای اکسید شده، دریچه های لازم جهت وارد کردن ناخالصی به داخل سیلیکون باز شود. لازم به ذکر است که در مورد فرآیند فوتولیتوگرافی در آزمایشگاه تحقیقاتی میکروالکترونیک (در بخش فیزیک) تحقیقات مبسوطی صورت گرفته و تجربیات زیادی حاصل شده است .

First 15 pages

Signup for downloading 15 first pages

Already have an account?login

similar resources

فرآیند لیتوگرافی در ساخت مدارهای تجمعی سیلیکون

فرآیند لیتوگرافی، یکی از اساسی ترین و پرهزینه ترین مراحل در ساخت مدارهای تجمعی است . در مقایسه با سایر فرآیندهای ساخت مدارهای تجسمی مثل : اکسیداسیون، ناخالص سازی و فلزگذاری که تحقیقاتی هم در زمینه شبیه سازی کامپیوتری این فرآیندها و هم در زمینه آزمایش عملی آنها با تکنیک های موجود در کشور انجام پذیرفته است ، در مورد لیتوگرافی هیچ تحقیق سازمان یافته و مشخصی که به جزئیات این فرآیند بپردازد، انجام ن...

15 صفحه اول

فرایند ناخالصی سازی در ساخت مدارهای تجمعی سیلیکون

مدارهای تجمعی قلب سیستمهای الکترونیکی را تشکیل می دهند. با توجه به اینکه تمامی علوم و تکنولوژی های پیشرفته وابسته به تکنولوژی الکترونیک هستند، لذا کشوری که قادر به طراحی و ساخت مدارهای تجمعی مورد نیاز خود نباشد، اساسا وابسته به کشورهای دیگر است . گرچه با توجه به پیشرفتهای عظیمی که در این رشته صورت گرفته، ورود کشور ما به صحنه تکنولوژی ساخت مدارهای تجمعی تا حدودی دیر است ، اما با یک برنامه ریزی ا...

15 صفحه اول

تاثیر کاشت یونی ژرمانیم در فرآیند ایجاد اکسید حرارتی سیلیکون

سرعت اکسید شدن در سیلیکون می تواند در اثر وجود ناخالصی ها تغییر کند.

full text

نظام مناسب جهت حمایت از حقوق مالکیت فکری در طرح ساخت مدارهای یکپارچه

تحصیل نظام مناسب جهت حمایت از حقوق مالکیت فکری در طرح ساخت مدارهای یکپارچه از دهه‌ی هشتاد میلادی، با احراز ناکارآمدی نظام حق اختراع و مالکیت ادبی و هنری، یکی از دغدغه های فعالان این صنعت بوده است. پیش بینی نظام خاص حمایتی در قوانین ملی و به تبع آن معاهده ی واشنگتن و در نهایت موافقت نامه ی تریپس پاسخی به این نیاز می باشد. اما، در عمل همچنان حق اختراع از مقبولیت عمومی بیشتر برخوردار بوده و نظام خ...

full text

مدل سازی فرآیند کلرسیون سیلیکون

در این پژوهش به مدل سازی فرآیند کلرسیون سیلیکون پرداخته شده است. این فرآیند درون یک راکتور بستر سیال انجام می شود. مدل کردن این فرآیند باعث رسیدن به شرایط عملیاتی بهینه و تولید محصول با کیفیت خواهد شد. برای مدل کردن این فرآیند از مجموعه ای از مدل ها که شرایط هیدرودینامیکی بستر سیال و سینتیک واکنش را شبیه سازی می کنند، استفاده شده است. به طوریکه از مدل ارائه شده توسط ون و موری، برای محاسبه قطر ح...

15 صفحه اول

My Resources

Save resource for easier access later

Save to my library Already added to my library

{@ msg_add @}


document type: thesis

وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه فردوسی مشهد - دانشکده علوم

Hosted on Doprax cloud platform doprax.com

copyright © 2015-2023